氮化鈦(TiN)具有典型的NaCl型結構,屬面心立方點陣,晶格常數a=0.4241nm,其中鈦原子位于面心立方的角頂。TiN是非化學計量化合物,其穩定的組成范圍為TiN0.37-TiN1.16,氮的含量可以在一定的范圍內變化而不引起TiN結構的變化。TiN粉末一般呈黃褐色,超細TiN粉末呈黑色,而TiN晶體呈金。TiN熔點為2950℃,密度為5.43-5.44g/cm3,莫氏硬度8-9,抗熱沖擊性好。TiN熔點比大多數過渡金屬氮化物的熔點高,而密度卻比大多數金屬氮化物低,因此是一種很有特色的耐熱材料。TiN的晶體結構與TiC的晶體結構相似,只是將其中的C原子置換成N原子
GaN在1050℃開始分解:2GaN(s)=2Ga(g)+N2(g)。X射線衍射已經指出GaN晶體屬纖維鋅礦晶格類型的六方晶系。
在氮氣或氦氣中當溫度為1000℃時GaN會慢慢揮發,GaN在較高的溫度下是穩定的,在1130℃時它的蒸氣壓比從焓和熵計算得到的數值低,這是由于有多聚體分子(GaN)x的存在。
GaN不被冷水或熱水,稀的或濃的鹽酸、硝酸和硫酸,或是冷的40%HF所分解。在冷的濃堿中也是穩定的,但在加熱的情況下能溶于堿中
TiN有著誘人的金、熔點高、硬度大、化學穩定性好、與金屬的潤濕小的結構材料、并具有較高的導電性和超導性,可應用于高溫結構材料和超導材料
GaN是極穩定的化合物,又是堅硬的高熔點材料,熔點約為1700℃,GaN具有高的電離度,在Ⅲ—Ⅴ族化合物中是的(0.5或0.43)。在大氣壓力下,GaN晶體一般是六方纖鋅礦結構。它在一個元胞中有4個原子,原子體積大約為GaAs的一半。因為其硬度高,又是一種良好的涂層保護材料。
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